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色譜分析用去離子水處理設備

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概述

色譜分析去離子水處理設備使用水中含有各種雜質，如懸浮物、有機物和無機物。為了確保系統中反滲透預除鹽部分的正常運轉，必須先去除水中的懸浮物、膠體、有機物等，使反滲透的進水達到要求，故本系統設置原水預處理部分。原水預處理部分包括機械濾器、活性炭濾器、軟化器、保安濾器、PH加藥等裝置。

工藝

色譜分析去離子水處理設備超純水系統根據不同的源水水質采用不同的工藝。一般自來水經一級反滲透系統處理后，產水電導率<10-20μS/cm，經二級反滲透系統后產水電導率<5μS/cm甚至更低，在反滲透系統后輔以離子交換設備或EDI設備可以制備超純水，使電阻率高達18兆歐姆.厘米)。反滲透膜老化或受污染后，產水質量會下降。

PH影響因素

1、不同溶液接觸時，其界面會產生電勢，俗稱接界電位E6。接界電位的穩定與否，直接影響 pH 測量的穩定性。再者，接界面積越小，則接界電位越大，越易造成測量的困難。因此純水 pH 測量，必須采用大接界面的電極，同時保持接界面流速恒定且小，這樣才能保證穩定的接界面!而傳統的加KCL溶液電極，陶瓷芯截面很小，這樣接界電位就很大，而若改為磨砂口或增加陶瓷芯，KCL溶液又大量滲透而污染溶液，這種電極是不適宜測純水的!

2、高純水的導電性很差，容易受到外界電磁場干擾，同時流動過程中，極易產生靜電、聲場等，影響測量穩定性和準確性。因此純水pH值的測量必須采用低阻敏感膜電極，這樣可以有效降低靜電、磁場、聲場的干擾，同時又使電極響應靈敏。
去離子水處理設備的應用領域

單晶硅、半導體晶片切割制造、半導體芯片、半導體封裝、引線柜架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件、電容器潔凈產品及各種元器件等生產工藝用純水。

食品工業用水:飲用純凈水、礦泉水、資料、啤酒、乳業等。

海水、苦咸水淡化:海島、艦船、高鹽堿地區生活用水改善。

樓宇、社區優質供水:星級賓館、機場、房產物業純水網絡系統等。

化工行業工藝用水:化工冷卻、化肥、化學藥劑制造。

工業產品制造用水:汽車、家電涂裝、涂料、油漆、精細加工清洗等。